7nm EUV工艺优艾设计网_设计客能够继续挖掘7nm潜力,提升晶体管密度并降低功耗。
就拿台积电的7nm EUV来说,它的提升是非常巨大的。
相比普通7nm,7nm EUV能够提升20%晶体管密度,并降低6%到12%同频功耗。
EUV是极紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography)的缩写,常被称作EUV光刻。
该光刻设备波长,从以前的193纳米,缩短到了10几纳米。这在半导体领域,是一个非常重大的突破。
借助EUV技术,厂商可以在相同的面积下,集成更多的晶体管。
CPU晶体管越多,能够同时处理的数据就越多,性能也就越强。
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