是比家用投影更先进的吗？
个人感觉似乎是一种通过激光光速生成的一种3维的立体画面，好比可优艾设计网_PS问答以凭空家用投影出一台和真人大小一样立体的人出来，
是这样的吗？
恳请高手解答，最好有资料+图片说明！
柳无肠 2021-09-28 08:06 楼主理解有偏差，一下是网路上一些介绍。你想的好像目前还没有这种技术。美国Anvik Corporation的研究员，发展了一套高通量无光罩微影术，不再需要昂贵的光罩系统，同时可以一次进行大面积的曝光，可望达到和传统使用光罩的微影术相近的生产效能。将一台大的图样缩小转移到另一台基板上，称作“微影术”（lithography）。传统上，要制造微电子或光电元件，所需要的图样是利用光罩系统转移到基板上。（看过皮影戏吗？就是这样的原理。）然而在诸如平面显示器等大尺寸应用上，光罩及相关设备的成本非常高，发展生产效能和传统方法相近的无光罩微影术便成了其中一种解决方案。Anvik Corporation的研究员Klosner和Jain即在最近一期的Applied Physics letters上发表了他们所发展出的高通量无光罩微影术。他们使用波长为436nm的雷射光作为光源，通过光学系统之后将光束截面调整为一台正六边形，接著经过一台PBS（polarizing beam splitter）之后，打在SLM优艾设计网_设计圈（spatial light modulator）上。SLM一共有256x256像素，每个像素可由电路控制为开或关。若是“开”，则该像素所反射的光的极化方向会旋转90度；若是 “关”则反射光极化方向不变。反射光回到PBS之后，极化方向不变的光会直接穿透，极化方向改变的光则会被反射到透镜组，接著家用投影在基板上。藉由电脑控制每个像素的开或关，同时对基板不同位置扫描，就可以将想要的图样转移到基板之上。一台25x25mm的区域约需100次扫描。将光束截面调整为正六边形，是Jain在之前所研究出的方法，能够使每次扫描相邻区域的接合处之不均匀度降到最低。若依传统方法，只要控制上有点误差，在相邻区域的接合处不是没曝光到就是曝光过度；使用正六边形截面的光束，在每次扫描时有部分重叠，即使控制有误差，接合处的曝光量仍不会和中心区域相差太远。利用这个方法，可以使整个基板上的任何地方的曝光量都很均匀。Jain等人正在发展下一代的无光罩微影术，估计其生产效能可达到每平方英吋只需45秒，解析度可达1μm，加上其较低的成本，已具有和传统光罩技术竞争的能力。无光罩微影(Masklesslithography)。这种技术以电子束为基础，总部设在荷兰代夫特的Mapper Lithography公司正在大力推动该技术的发展。2009年7月，Mapper向法国格拉诺布尔的研究机构CEA-Leti提供了一台300毫米电子束微影平台，供台湾集成电路制造股份有限公司(简称台积电)从事相关研究。
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柳无肠 2021-09-28 08:06 楼主理解有偏差，一下是网路上一些介绍。你想的好像目前还没有这种技术。美国Anvik Corporation的研究员，发展了一套高通量无光罩微影术，不再需要昂贵的光罩系统，同时可以一次进行大面积的曝光，可望达到和传统使用光罩的微影术相近的生产效能。将一台大的图样缩小转移到另一台基板上，称作“微影术”（lithography）。传统上，要制造微电子或光电元件，所需要的图样是利用光罩系统转移到基板上。（看过皮影戏吗？就是这样的原理。）然而在诸如平面显示器等大尺寸应用上，光罩及相关设备的成本非常高，发展生产效能和传统方法相近的无光罩微影术便成了其中一种解决方案。Anvik Corporation的研究员Klosner和Jain即在最近一期的Applied Physics letters上发表了他们所发展出的高通量无光罩微影术。他们使用波长为436nm的雷射光作为光源，通过光学系统之后将光束截面调整为一台正六边形，接著经过一台PBS（polarizing beam splitter）之后，打在SLM优艾设计网_设计圈（spatial light modulator）上。SLM一共有256x256像素，每个像素可由电路控制为开或关。若是“开”，则该像素所反射的光的极化方向会旋转90度；若是 “关”则反射光极化方向不变。反射光回到PBS之后，极化方向不变的光会直接穿透，极化方向改变的光则会被反射到透镜组，接著家用投影在基板上。藉由电脑控制每个像素的开或关，同时对基板不同位置扫描，就可以将想要的图样转移到基板之上。一台25x25mm的区域约需100次扫描。将光束截面调整为正六边形，是Jain在之前所研究出的方法，能够使每次扫描相邻区域的接合处之不均匀度降到最低。若依传统方法，只要控制上有点误差，在相邻区域的接合处不是没曝光到就是曝光过度；使用正六边形截面的光束，在每次扫描时有部分重叠，即使控制有误差，接合处的曝光量仍不会和中心区域相差太远。利用这个方法，可以使整个基板上的任何地方的曝光量都很均匀。Jain等人正在发展下一代的无光罩微影术，估计其生产效能可达到每平方英吋只需45秒，解析度可达1μm，加上其较低的成本，已具有和传统光罩技术竞争的能力。无光罩微影(Masklesslithography)。这种技术以电子束为基础，总部设在荷兰代夫特的Mapper Lithography公司正在大力推动该技术的发展。2009年7月，Mapper向法国格拉诺布尔的研究机构CEA-Leti提供了一台300毫米电子束微影平台，供台湾集成电路制造股份有限公司(简称台积电)从事相关研究。
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