6、使用套索工具选中不需要的部分。然后打开:图层“>图层蒙版>”隐藏。
7、打开图层“>图层样式>阴影。混合模式为“线性加深”,并选择黑色。对于使用不透明度35%,为采用45度角,距离:5像素,扩展:0像素,大小:10像素。
之后,选择斜面和浮雕。样式:内斜面,方法:光滑,深度:110%。方向:上,大小:16像素,软化:15像素,阴影:53,高度37。为了突出显示,使用不透明度100%的白色。高光模式为:滤色,然后使用35%不透明的黑色,阴影模式为:线性加深。
6、使用套索工具选中不需要的部分。然后打开:图层“>图层蒙版>”隐藏。
7、打开图层“>图层样式>阴影。混合模式为“线性加深”,并选择黑色。对于使用不透明度35%,为采用45度角,距离:5像素,扩展:0像素,大小:10像素。
之后,选择斜面和浮雕。样式:内斜面,方法:光滑,深度:110%。方向:上,大小:16像素,软化:15像素,阴影:53,高度37。为了突出显示,使用不透明度100%的白色。高光模式为:滤色,然后使用35%不透明的黑色,阴影模式为:线性加深。
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